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南充1400度立式四温区真空气氛管式炉

描述:南充1400度立式四温区真空气氛管式炉 1400度立式四温区真空气氛管式炉在材料科学领域展现出的优势。其的四温区设计突破了传统单温区炉体的局限,通过独立控温系统实现了梯度烧结、分段退火等复杂工艺需求。例如在制备多层功能陶瓷时,操作者可调控每个温区的升降温曲线,使不同材料层在佳温度下完成致密化,避免因热膨胀系数差异导致的层间剥离问题。

  • 产品型号:DNR系列
  • 价格:5500
  • 更新时间:2025-04-22
  • 访问量:181
产品介绍/ PRODUCT PRESENTATION

南充1400度立式四温区真空气氛管式炉

南充1400度立式四温区真空气氛管式炉1400度立式四温区真空气氛管式炉在材料科学领域展现出的优势。其的四温区设计突破了传统单温区炉体的局限,通过独立控温系统实现了梯度烧结、分段退火等复杂工艺需求。例如在制备多层功能陶瓷时,操作者可调控每个温区的升降温曲线,使不同材料层在佳温度下完成致密化,避免因热膨胀系数差异导致的层间剥离问题。

该设备的真空系统采用分子泵与机械泵联合作业,能在15分钟内将炉腔真空度提升至10-3P别。配合高纯度氩气/氮气气氛控制系统,既能满足氧化物材料的无氧烧结要求,又可实现碳化硅等非氧化物材料的反应烧结。炉体配备的氧化铝纤维隔热层与双层水冷结构,使外壳温度始终控制在60℃以下,大幅降低了实验室的安全风险。

新升级的智能控制系统集成了工艺参数记忆功能,可存储50组烧结程序。研究人员通过7英寸触摸屏能实时监控各温区热电偶数据,系统自动生成的温度-时间曲线可直接导出为实验报告附件。在第三代碳化硅晶须生长实验中,该设备通过精确控制1100-1400℃温区的停留时间,成功制备出长径比超过200的β相晶须。

南充1400度立式四温区真空气氛管式炉是一种常用于科研和工业领域的精密热处理设备,以下是其相关介绍:

结构特点

  • 加热系统:通常采用硅碳棒作为加热元件,具有发热效率高、耐高温、抗氧化等优点。硅碳棒均匀分布在炉膛周围,为炉管提供均匀的热量。四温区设计意味着在炉管的不同位置可以独立控制温度,通过调节各个温区的加热功率,能够实现不同的温度分布,满足不同实验或工艺对温度梯度的要求。

  • 炉膛:一般采用优质的耐高温陶瓷纤维或刚玉等材料制成,具有良好的保温性能和耐高温性能,能有效减少热量散失,同时避免对炉内气氛和样品产生污染。炉膛为立式结构,有利于样品在重力作用下保持稳定,也便于气体在炉内的均匀分布。

  • 炉管:通常选用石英、刚玉或不锈钢等材质,具有良好的耐高温、耐腐蚀性能。炉管的直径和长度根据具体型号和应用需求而定,可满足不同尺寸样品的处理要求。

  • 真空系统:由真空泵、真空阀门、真空计等组成,可将炉内空气抽出,达到高真空度,如 10⁻³ Pa 甚至更高3。能有效排除炉膛内的空气和杂质,减少样品在高温处理过程中的氧化和污染。

  • 气氛控制系统:包括气体钢瓶、气体管道、流量计、阀门等。可通入氮气、氩气、氢气等多种气体,通过精确控制气体的流量、压力和通入时间,营造稳定且符合要求的气氛环境,满足不同材料在特定气氛下进行处理的需求。

  • 温度控制系统:采用智能 PID 温控仪表,每个温区都有独立的温度控制单元,控温精度可达 ±1℃2。可实时监测和控制各个温区的温度,通过预设程序实现升温、保温、降温过程的自动化控制,确保实验或生产过程中温度的稳定性和准确性。

性能优势

  • 精确的温度控制:四温区独立控温设计,能够根据实验需求精确设置和控制不同区域的温度,实现复杂的温度分布要求,对于研究材料在不同温度梯度下的性能变化非常有利。控温精度高,温度波动小,有助于保证实验结果的准确性和可重复性。

  • 良好的气氛控制:可以灵活调节和控制炉内气氛,满足各种材料处理对气氛的严格要求。稳定的气氛环境有助于防止材料氧化、实现特定的化学反应,从而获得理想的材料性能。

  • 高真空度:能够达到较高的真空度,为材料处理提供无氧、无水、无污染的纯净空间,这对于某些对气氛极为敏感的材料的合成、改性或烧结至关重要,例如半导体材料的提纯、纳米材料的制备等。

  • 温度均匀性好:通过合理设计加热元件布局和炉膛结构,以及四温区的精确控制,使炉内温度分布更加均匀,保证样品受热的一致性,避免因温度差异导致材料性能不均匀,有利于提高产品质量和实验结果的准确性。

  • 安全可靠:配备超温报警、过流保护、断偶保护、漏电保护、气体泄漏检测等多种安全保护装置,能够在设备出现异常情况时及时自动切断电源或采取相应的保护措施,保障操作人员的安全和设备的正常运行。

应用领域

  • 材料科学研究:用于研究陶瓷材料、金属材料、半导体材料等在高温和特定气氛下的性能变化、微观结构演变等,如材料的烧结、退火、熔融、相变研究等,为新材料的研发提供实验支持。

  • 电子工业:在电子元件的制造过程中,如电阻、电容、电感等元件的烧结和老化处理,以及半导体器件的热处理工艺中发挥重要作用,有助于提高电子元件的性能和稳定性。

  • 粉末冶金:用于粉末冶金制品的烧结,通过控制真空度和气氛,可以改善粉末的烧结效果,提高制品的致密化程度和力学性能。

  • 化学合成:可用于一些需要在高温、真空或特定气氛条件下进行的化学反应,如有机合成、催化剂制备等,为化学反应提供理想的环境。


值得注意的是,四温区独立加热模块采用模块化设计,当某个加热单元损坏时,只需更换单组硅钼棒而无需整体拆炉。这种设计将设备维护成本降低40%,配合设备自带的漏气报警与超温断电保护功能,显著提升了科研设备的综合使用效益。目前该型号已在清华大学新型陶瓷实验室完成3000小时验证,为高温功能材料的研发提供了可靠平台。




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