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更新时间:2026-04-25
浏览次数:13高温真空下,表面SiO₂保护膜直接升华消失,内部 MoSi₂快速分解、粉化、脆断。
纯真空(无惰性气体):1200℃以上几百小时内损坏,1400℃几乎不能用。
仅能用于:预抽真空后充入 N₂/Ar 惰性气体(非纯真空),寿命约 2000–3000h。
真空下不分解、不粉化,仅轻微老化(电阻缓慢上升)。
1000–1300℃真空:寿命3000–5000h,接近空气环境。
1400℃真空(涂层款):可达2000–3000h,远好于硅钼棒。
| 工况 | 硅碳棒(SiC) | 硅钼棒(MoSi₂) |
|---|---|---|
| 1000–1200℃ 纯真空 | 3000–5000h(稳定) | <500h(易脆断) |
| 1300–1400℃ 真空 + 惰性气 | 2000–3000h(可用) | 1500–2500h(勉强用) |
| 1600–1700℃ 真空 | 不推荐(超温) | 禁止(快速损坏) |
| 对比维度 | 硅钼棒 (MoSi₂) | 硅碳棒 (SiC) |
|---|---|---|
| 真空适用性 | 极差,保护膜无法形成,会迅速损坏 | 可用,是真空炉中常见的非金属加热元件 |
| 失效原理 | 因缺乏氧气导致保护膜失效,材料直接升华 | 在真空中也会加速老化,但过程相对缓慢 |
| 结论 | 不适用于真空环境 | 真空环境下的更优选择 |
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